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レーザーテックがフォトマスクのヘイズ除去システムを発売 |
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 レーザーテック株式会社（横浜市港北区）は、11月12日、フォトマスク上に生成したヘイズ（成長性異物）をペリクルを装着したままで除去するヘイズ除去システムPROMAHAZEを開発し１１月より受注を開始すると発表した。
フォトマスク上の回路パターンのウェハ転写用光源には、短波長のKrFやArFレーザーが多く用いられているが、特に先端デバイスで使われるArFレーザーの照射光エネルギーは高く、マスクに吸着した物質の化学反応を誘発しマスク上にヘイズと呼ばれる固体状の成長性異物を生成する。ヘイズの大きさと個数は時間経過と露光により増加するためウェハへの正確なパターン転写ができなくなり、デバイスの性能に影響を与えるレベルに進行した場合は、ペリクルフレームの取外し－マスクのウェット洗浄－ペリクルの再マウント－異物検査、を行なうことになり、通常この作業は専用設備が必要となる。PROMAHAZEは、フォトマスクに光を照射してマスク表面のヘイズをガス状物質に分解・除去し、 ヘイズの影響を除去・低減するもので、さらに、同社のフォトマスク欠陥検査装置や位相量・透過率測定装置と合わせて使用することで総合的なフォトマスク管理も可能となる、としている。
レーザーテックのURL:http://www.lasertec.co.jp/
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